SK하이닉스가 이번에 개발한 '3세대 10나노급(1z)DDR4 D램'은 단일 칩 기준 업계 최대 용량인 16Gb를 구현해 웨이퍼 1장에서 생산되는 메모리 총 용량이 현존하는 D램 중 가장 크다. 2세대(1y) 제품 대비 생산성이 약 27% 향상되고 초고가 EUV(극자외선) 노광 공정 없이도 생산 가능해 원가 경쟁력도 갖췄다는 게 회사 측 설명이다.
데이터 전송 속도는 DDR4 규격의 최고 속도인 3200Mbps까지 안정적으로 지원한다. 전력 효율도 대폭 높여 2세대 8Gb 제품으로 만든 동일 용량의 모듈보다 전력 소비를 약 40% 줄였다.
특히 3세대 제품은 이전 세대 생산 공정에는 사용하지 않던 신규 물질을 적용해 D램 동작의 핵심 요소인 정전용량(Capacitance)을 극대화했다. 정전용량은 전하를 저장할 수 있는 능력으로 D램 정전용량이 늘어나면 데이터 유지 시간과 정합도가 상승한다.
SK 하이닉스는 이와 함께 새로운 설계 기술을 도입해 동작 안정성도 높였다.
이정훈 D램개발사업 1z TF장(담당)은 “3세대 10나노급 DDR4 D램은 업계 최고 수준의 용량과 속도에 전력 효율까지 갖춰 고성능/고용량 D램을 찾는 고객 수요 변화에 가장 적합한 제품”이라며 “연내에 양산 준비를 마치고 내년부터 본격 공급에 나서 시장 수요에 적극 대응할 것”이라고 밝혔다.
오만학 글로벌이코노믹 기자 mh38@g-enews.com
