이미 규제가 확정된 EUV용 포토리지스트(PR)가 일본 외에 대체 가능한 업체가 없는 데다, 추가 규제 가능성이 제기된 블랭크 마스크 또한 EUV용 제품을 일본 업체가 독점하고 있기 때문이다.
이 가운데 웨이퍼와 블랭크 마스크는 일본 업체의 시장 점유율이 매우 높은 것으로 알려져 있다.
특히 블랭크(blank) 마스크는 노광 공정에 사용되는 포토마스크의 원재료로, 반도체 공정이 미세화하며 중요성이 더욱 커지고 있다.
삼성전자가 주력하고 있는 EUV 기술 또한 미세한 공정에 적합한 차세대 기술로 국내에서 생산하는 블랭크 마스크로는 일본의 첨단 제품을 대체할 수 없다는 게 업계 분석이다.
포토리지스트의 경우도 공정 중 종류별로 여러 층이 도포되는데, 핵심층에 사용되는 제품은 기술적으로 앞서있는 일본 제품으로 알려져 있다.
EUV용 포토리지스트는 일본의 JSR, 신에츠 등이 공급하고 있으며 국내 동진쎄미켐 등은 아직 EUV용을 개발 중이다.
소재 공급이 끊기더라도 당장은 시범 생산라인에만 영향을 미치지만, 문제는 내년 1월 본격 가동될 예정인 화성의 EUV 전용 생산라인이다.
지난 4월 문재인 대통령이 찾은 EUV 건설현장에서 이재용 삼성전자 부회장은 "이거 짓는 돈이 인천공항 3개 짓는 비용"이라며 투자 규모를 강조한 바 있다.
업계 관계자는 "삼성전자의 핵심성장산업 중 하나가 시스템 반도체고, 이를 이끄는 기술이 EUV"라며 "사태가 장기화해 문제가 생기면 대한민국 반도체의 미래가 멈추는 것"이라고 우려했다.
이정선 글로벌이코노믹 기자 bellykim@daum.net